科技进步与对策

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国内刊号:42-1224/G3

国际刊号:1001-7348

科技进步与对策杂志2025年第21期:基于“决策实验室—对抗解释结构模型”的企业专利创新影响因素关联机理与传导路径研究

发布日期:

作者:李晓妍1,2

单位:(1.南京大学 数据智能与交叉创新实验室;2.南京大学 信息管理学院,江苏 南京 210023)

关键词:专利创新;影响因素;决策实验室分析法;对抗解释结构模型

为深入探究企业专利创新活动的内在规律与系统结构,采用文献调研法和德尔菲法构建企业专利创新影响因素指标体系,运用决策实验室法、对抗解释结构模型、交叉影响矩阵相乘法探讨影响因素的系统位置、层次及作用。结果发现:企业专利创新受多元因素影响,包含环境、市场、企业、技术4个维度11个因素;不同因素属性、重要程度存在差异,其中,市场占有率、企业研发投入、企业技术能力、技术人才资源、技术机会、技术贡献属于关键因素;因素间存在底层、表层、中层逻辑层次,且存在跨级关联现象;基于要素间因果关系与对抗层级得到“市场—企业—技术”“企业—环境—市场”两条传导主路径;企业专利创新影响因素通过依赖、自主、关联、驱动等方式发挥协同作用。由此,提出促进企业专利创新相关建议,旨在提升企业专利创新能力,为相关政策制定提供理论支撑。

来源:2025年第21期

《科技进步与对策》期刊编辑部

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