科技进步与对策

北大核心,JST,CSSCI,WJCI,AMI扩展

国内刊号:42-1224/G3

国际刊号:1001-7348

科技进步与对策杂志2021年第22期:外资在华技术创新溢出是否促进内资企业技术进步——基于门槛效应的经验分析

发布日期:

作者:黄烨1,刘婷1,2

单位:(1.湘潭大学 商学院,湖南 湘潭 411105;2.湖南师范大学 商学院,湖南 长沙 410081)

关键词:技术创新溢出,技术进步,外资竞争,内资模仿同构,知识产权保护

基金:国家社会科学基金项目(19BGL009)

利用2010—2019年中国A股上市公司数据,构建面板门槛模型,探讨外资在华技术创新溢出对内资企业技术进步的门槛效应。结果表明,外资在华技术创新溢出自身存在单门槛效应,对内资企业技术进步的影响呈倒U型关系;以行业外资竞争、内资模仿同构和区域知识产权保护为门槛变量发现,仅当外资竞争水平较低、内资模仿同构程度较低以及区域知识产权保护力度较大时,外资在华技术创新溢出才能促进内资企业技术进步,且其阈值效应存在行业和企业产权异质性。

来源:2021年第22期

《科技进步与对策》期刊编辑部

查看科技进步与对策杂志2021年第22期

联系我们

  • 地址:武汉市洪山路2号湖北科教大厦D座6楼
  • 电话:027-87827215
  • E-mail:bianwu@kjjb.org

咨询工作人员